A Samsung a 14LPU és a 10LPU eljárással bővíti félvezetőgyártási technológiáját
Az új félvezetőgyártási eljárások, valamint az EUV-kompatibilis 7 mm-es lapka a Samsung Félvezetőgyártói Fórumán mutatkozott be
A Samsung Electronics, a speciális félvezetőtechnológia iparágvezetője negyedik generációs 14 nanométeres (nm) (14LPU), valamint harmadik generációs 10 nm-es (10LPU) eljárásokkal bővíti félvezetőgyártási eljárástechnológiáját, hogy megfeleljen a következő generációs mobil- és fogyasztói elektronikai eszközök, valamint az adatközpontok és gépjárművek által támasztott követelményeknek.
A technológiai újításokat a Samsung Félvezetőgyártói Fórumán mutatták be a vásárlóknak és a partnereknek. A Device Solutions America központjában zajló eseményen a vállalat felfedte az új technológiákkal (többek között a 14LPU és a 10LPU eljárással) kapcsolatos részleteket is.
A Samsung negyedik generációs 14 nm-es technológiája, a 14LPU a harmadik generációs 14 nm-es eljáráshoz (14LPC) képest nagyobb teljesítményt biztosít azonos meghajtás és kialakítás mellett. A 14LPU a nagy teljesítményű és számításigényes alkalmazásokhoz kínál optimális megoldást.
A Samsung harmadik generációs 10 nm-es eljárása, a 10LPU az előző generációknál (10LPE és 10LPP) kisebb méretű. A jelenlegi litográfiai technológiák korlátai miatt várhatóan a 10LPU lesz az iparág leginkább költséghatékony csúcstechnológiás feldolgozási technológiája. A 10LPE-hez képest nagyobb teljesítményt biztosító második generációs 10 nm-es eljárással (10LPP) együtt a 10LPU megfelel a továbbfejlesztett 10 nm-es eljárás lehetőségeit kiaknázó alkalmazások igényeinek.
Az új eljárások mellett a Samsung frissítette 7 nm-es EUV eljárásfejlesztési kínálatát és bemutatta a 7 mm-es EUV lapkát is.
„Miután október közepén bejelentettük az üzletág első 10 nm-es tömeggyártását, kínálatunkat tovább bővítjük új félvezető-gyártási eljárásokkal – ez a 14LPU és a 10LPU” – jelentette ki Ben Suh, a Samsung Electronics Félvezetőgyártó üzletágának marketingért felelős elnökhelyettese. – „A Samsung bízik csúcstechnológiai szabványaiban, melyek a tervezési előnyök mellett a gyárthatóságra helyezik a hangsúlyt. Elsöprően pozitív piaci visszajelzéseket kaptunk, és célunk, hogy tovább erősítsük a félvezetőgyártási ágazatban elért vezető pozíciónkat.”
A 14LPU és 10LPU eljárások tervezőkészletei (PDK) 2017 második negyedévében válnak elérhetővé.
Kapcsolódó cikkek
- A Samsung Pay új lehetőségekkel bővül
- A KT és a Samsung sikeresen létrehozta a világ első 5G kapcsolatát végpontok közötti 5G hálózatokon keresztül
- A Samsung ARTIK Smart IoT platform a vállalatok kezébe adja az IoT-fejlesztésben rejlő lehetőségeket
- Tartunk a lopástól, de kevésbé vigyázunk adatainkra, mint az európai átlag
- A Samsung szoftverfrissítést ad ki a Galaxy Note7 készülékekhez Európában
- Önálló munkavégzés? - A te porszívód mire képes?
- A Samsung kiadta az iparág első 8 GB-os LPDDR4 DRAM-csomagját
- A Samsung összehangolt lépéseket sürget a szilícium-völgyi 5G csúcstalálkozón
- A Samsung az iparágban elsőként megkezdi a 10 nanométeres FinFET technológiát alkalmazó egylapkás rendszerek gyártását
- A Samsung leállította a Galaxy Note7 gyártását és elkezdte készülékváltás programját
Megoldás ROVAT TOVÁBBI HÍREI
A világ egyik legjobb egyetemével kötött partnerséget a Budapesti Metropolitan Egyetem
A Budapesti Metropolitan Egyetem (METU) első és egyetlen magyar egyetemként írt alá hosszú távú partnerségi megállapodást az Arizona State University-vel (ASU), amely a Center for World University Rankings 2023-2024 szerint a világ legjobb egyetemeinek 1%-ába tartozik. Ez a partnerség új lehetőségeket biztosít a METU-n tanuló magyar és külföldi hallgatók számára, és a magyar felsőoktatás nemzetközivé válásának következő lépcsőfoka lehet. A megállapodás alapján a METU jogosult használni a logója részeként a „powered by Arizona State University” megnevezést.